5月14日下午，应学院邀请，大连理工大学彭孝军院士做客北京科技大学“理学之美”名师讲坛，在建龙报告厅为师生带来了题为“色彩与荧光的化学:分子设计、功能强化及其工业应用”的报告。本次讲座由化生学院李正平院长主持。

首先彭院士从关键的科学问题出发阐述染料激发态释能过程的调控:1热能散发，2、荧光发射，3、电子转移，4、光化学反应；接着为同学们阐述耐候性打印染料，所谓耐候性就是指染料在紫外光辐射下的氧化分解；当讲到提高打印染料的耐候性时他强调常规技术如分子中引入吸电子基团并不能从根本上解决耐候难题，然而实验发现光照下染料产生的单线态氧及臭氧的氧化电位更高，所以提出利用分子内电子转移来增强耐候性，也能通过缩短激发态寿命来抑制单线态氧来提高染料耐光性，从而实现数码打印大规模应用。而通过长激发态染料的创制来增加单线态氧的量，也可以进行光动治疗推广并应用于时间分辨荧光成像。

最后彭院士总结通过染料激发态寿命调控来提高耐光稳定性运用于信息打印染料，染料激发态弛豫调控可以确定近红外比例荧光染料母体结构运用于生物荧光探针，提高单线态氧的产率进行医学诊疗如染料癌细胞识别。

现场提问环节，彭院士就师生的提问进行了详尽解答，现场气氛十分热烈。

 主讲人简介：大连理工大学教授、国家杰出青年基金获得者，中国科学院院士。精细化工国家重点实验室主任、国务院学科评议组成员。大连理工大学学士、硕士、博士学位，南开大学博士后，瑞典斯德哥尔摩大学和美国西北大学访问学者。主要从事精细化工研究，包括高性能染料、荧光探针、光学材料，在数码彩色打印、血液细胞分析系统等领域获得产业化应用，分别获得2006年国家技术发明二等奖和2013年国家自然科学二等奖。2015起连续入选Thomson Reuters全球“高被引科学家”。2017年当选中国科学院院士。